高纯半导体用氮化镓溅射靶材，GaN，99.99%，直径25.4mm，厚度3mm，1个,材料平台

高纯半导体用氮化镓溅射靶材，GaN，99.99%，直径25.4mm，厚度3mm，1个

品牌：亿品川成

商家：亿品川成（北京）科技有限公司

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厂商名称：亿品川成（北京）科技有限公司

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亿品川成（北京）科技有限公司

亿品川成（北京）科技有限公司(简称亿品科技)是一家专业从事高纯有色金属，蒸发镀膜材料，磁控溅射靶材以及各类新材料的研发、生产、销售和服务于一体的高新技术企业。亿品川成主要产品有高纯金属溅射靶材、氧化物溅射靶材、陶瓷及其半导体靶材，稀土靶材；蒸发镀膜材料、高纯金属材料、合金材料、陶瓷材料，稀土材料等，主要应用于平板显示器、电子半导体，镀膜玻璃工业、光磁记录介质、薄膜太阳能工业、装饰和工具镀膜、汽车车灯镀膜等。公司始终秉承高效创新的理念，提供优质专业的产品，坚持客

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商品简介

靶材生产商：亿品川成（北京）科技有限公司

靶材名称：氮化镓靶材

化学式：GaN

纯度：99.99%

氮化镓靶材主要用于通过物理气相沉积（PVD）、化学气相沉积（CVD）等方法，在基板上沉积氮化镓薄膜。这些薄膜是制造高速电子器件、高效率光电子器件的基础，如5G通信基站的功率放大器、卫星通信的射频前端、高亮度LED以及激光二极管等。

靶材的质量、纯度和均匀性对最终产品的性能有着至关重要的影响。我司生产的高纯度氮化镓靶材在工艺上减少杂质掺杂，从而在源头提高半导体器件的性能，确保薄膜的一致性和可靠性。

商品描述评分：	卖家服务评分：	商品描述评分：
**	2025-03-27 22:23:27
商品选择：默认款式	商品金额：￥3000	购买数量：1
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